关于CSTM标准《193nm光刻机用宽角减反射膜技术规范》的立项公告

2020-12-30

    经中国材料与试验团体标准委员会(以下简称:CSTM标准委员会)光电材料及产品领域委员会审查,CSTM标准委员会批准CSTM标准《193nm光刻机用宽角减反射膜技术规范》立项,标准项目归口管理委员会为CSTM/FC60/TC05光电材料及产品领域委员会光学薄膜标准化技术委员会,该标准(中文版)立项编号为CSTM LX 6005 00599-2020,标准(英文版)立项编号为CSTM LX 6005 00599-2020 E,标准牵头单位为中国科学院上海光学精密机械研究所,特此公告。

    如有单位或个人对该标准项目存在异议,请在公告之日起30日内将意见反馈至CSTM标准委员秘书处。

    如有单位或个人愿意参与该标准项目的工作,请与项目牵头单位联系。

CSTM标准委员会秘书处联系方式

联系人:陈鸣,罗倩华

办公电话:010-62187521

手机:13011072266,13611338417

邮箱:chenming@ncschina.com, luoqianhua@ncschina.com

通讯地址:北京市海淀区高梁桥斜街13号钢研集团新材料大楼1037

邮编:100081

项目牵头单位联系方式

联系人:张伟丽

手机:18917150821

邮箱:wlzhang@siom.ac.cn

CSTM标准委员会

2020年12月30日

附件:cstm(b)0242-2020 关于cstm标准《193nm光刻机用宽角减反射膜技术规范》的立项公告.pdf

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